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關于shinkuu磁控濺射設備技術分析

發(fā)布時間:2022-11-07 點擊量:1251

關于shinkuu磁控濺射設備技術分析


磁控濺射系統(tǒng)是利用靶材背面的強磁體促進陰極表層電離,利用磁場使離子與靶材碰撞并噴出金屬分子的原理。
金和鉑等貴金屬主要用于電子顯微鏡應用。我們還有一系列可以濺射其他金屬靶材的型號。

電子顯微鏡濺射,主要粒徑比較


Au:金
觀察區(qū)域:數(shù)千~10,000 倍
Au—Pd:金鈀
觀察區(qū)域:10,000 ~ 50,000 倍
適合對比度良好的低倍率觀察。

Pt:鉑
觀測面積:50,000~100,000倍
Pt--Pd:鉑鈀
觀測面積:30,000~50,000倍
粒徑細,常用于高倍率觀測。

W:鎢
觀察倍率:100,000倍以上

粒徑具有與鋨相當?shù)募毝?,能夠在比鉑更高的倍率范圍內進行觀察。






























相關產品特點及運用指南

設備特征目標金屬
MSP-mini
超小型濺射設備
適用于光學顯微鏡,適合用于制作有光澤的銀膜,以及用于 SEM 和臺式 SEM 的預處理。
MSP-1S
是一種帶有內置泵的緊湊型濺射系統(tǒng)。
還可用于濺射鉑靶材,可用于高達約50,000倍的高倍率觀察。



MSP20 系列以高功能和簡單操作的概念開發(fā)。具備調整功能、自動排氣順序、聯(lián)鎖功能等各種需求的性能陣容。各有特點,UM是樣品旋轉機構,MT是4英寸靶材,TK是鎢濺射能力。

設備特征目標金屬
MSP-20UM
功能可調,適用于各種應用。設置條件后,可以使用全自動按鈕進行自動沉積。
可選傾斜旋轉樣品臺。提高車削性能。
配備氬氣導入,可以鍍上更高純度的貴金屬薄膜。
聯(lián)鎖和安全機構也是重要的濺射設備。
MSP-20MT
這是4英寸晶圓的濺射系統(tǒng),配備φ100mm尺寸的靶電極。
該設備概念基于 MSP-20,可對更廣泛的樣品進行涂層。

該設備專為MSP-20TK鎢濺射而開發(fā)。它也可用于超高分辨率 SEM 觀察。大容量電源可以濺射貴金屬以外的多種金屬。
氬氣用作氣氛氣體。風冷磁控管靶可減少樣品損壞并防止靶溫升高。

這是一種特殊的濺射設備,支持在半導體制造過程中對大面積晶片進行濺射。提供 8 英寸和 12 英寸兩種尺寸。

設備特征目標金屬

采用磁控靶電極實現(xiàn)了直徑為200 mm的大面積樣品臺,以滿足更大尺寸的MSP-8in硅襯底的需求。更大的樣品臺可以同時鍍膜 8 英寸晶圓和多個 SEM 樣品,從而提高檢測工作的效率。

采用磁控靶電極實現(xiàn)了直徑為300 mm的大面積樣品臺,以滿足更大尺寸的MSP-12in硅基板的需求。更大的樣品臺可同時鍍膜 12 英寸晶圓和多個 SEM 樣品,提高檢測工作效率。


對于形狀復雜、超高倍率觀察20萬倍以上的樣品,請考慮包覆性好、顆粒細的鋨鍍膜機。


Os:鋨 由于
涂層是在氣體氣氛中進行的,因此它對樣品的滲透性非常好,并且粒徑非常小。
主要用于對生物樣品和具有三維結構的樣品進行涂層。

W:鎢
粒子系與鋨相當,但由于成膜方法的不同,在環(huán)繞性方面不如鋨涂布機。


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